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什么是高純水? 什么是高純水( 二 )

生活百科


制備
高純水制備的典型工藝流程如下[3]：
源水→過濾→活性炭過濾器（或有機大孔樹脂吸附器）→反滲透器（或電滲析器）→陽離子交換柱→陰離子交換柱→ 混合離子交換柱→有機物吸附柱→紫外燈殺菌器→精密過濾器→高純水 。
高純水的制備流程由預處理、脫鹽和后處理三部分組成，根據用水的要求，選擇合適的工藝組合 。
（1）預處理 。主要是除去懸浮物、有機物，常用的 *** 有砂濾、膜過濾、活性炭吸附等 。
（2）脫鹽 。主要是除去各種鹽類，常用的 *** 有電滲析、反滲透、離子交換等 。
（3）后處理 。主要是除去細菌、微顆粒，常用的 *** 有紫外殺菌、臭氧殺菌、超過濾、微孔過濾等 。
水質標準
制定高純水標準中各項指標的主要依據有三個方面：一是微電子工藝對水質的要求；二是制水工藝的發展水平；三是水中雜質監測技術的現狀[4] 。
我國高純水的國家標準將電子級水分為五個級別，相應標準為EW-I、EW-Ⅱ、EW-Ⅲ、EW-IV、EW-V，其中EW-I為更高級，它所要求的雜質控制指標如下：電阻率在90%時間內達到18 MQ·cm（25℃），其余時間最小值為17 MQ·cm（25℃），大于0.5 μm的微粒數少于100個/mL，細菌個數更大值1個/mL，總有機碳含量不大于50 μg/L，二氧化硅總含量不大于2 μg/L，氯、鉀、鋁、鐵、鈣的含量均不大于0.5 μg/L，而銅、鋅含量不大于0.2 μg/L 。
近年來，隨著超大規模集成電路的發展，對水中總有機碳(TOC)及溶解氧（DO）也提出了更為嚴格的要求，如256 M或1 G位超大規模集成電路制造中，要求高純水的溶解氧及總有機碳均小于2 μg/L或更低 。
應用
高純水主要應用在電子和微電子工業上，也用于食品、造紙、醫藥等行業 。隨著半導體器件由過去的單電路發展到集成電路，對水質的要求就越來越高 。在半導體切片和研磨過程中，須用高純水進行清洗，即使只有微粒塵埃雜質，也會影響產品質量[5] 。
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