中國的光刻機研發項目目前有三大線路 ， 每條都有其獨特的特點和技術方向 。首先是由上海光機所領導的正統線路，這條線路與ASML的技術線路類似，被認為是傳統的光刻機發展方向 。
第二個線路由廣東智能機器研究院和華中科技大學合作展開，其特點是將光刻機的光源替換為X射線，具有更高的分辨率和潛力 。這類技術的引入可以為中國在光刻機領域賦予更多競爭優勢 。

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第三個線路由清華大學主導，采取了SSMB-EUV技術方案 。這一方案的獨特的地方在于大膽出奇制勝 ， 將光源進行了大幅度的放大和加大功率，以實現更高的精度和效力 。這類方式類似于建立一個光刻工廠 ， 將光源輸送到芯片生產廠，從而繞過了小型化光源的問題 。
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